以量子科學引領奈米壓印微影(Nanoimprint Lithography)技術，開創精密製造新未來
奈米級圖案形成的過程
奈米壓印微影（Nanoimprint Lithography, NIL）是一種高精度技術，利用圖案化的模具將奈米級圖樣壓印到材料表面。它提供了一種相較於傳統曝光微影技術更具成本效益且具高解析度的替代方案，能用來製作極微小的結構。 NIL 適合用於製造奈米晶片、感測器和光學元件。其製程簡單且具高精確度，非常適合需要大規模製作精細表面圖樣的產業。
異質材料上的光解決方案
高速高功率的通訊雷射元件
生醫用的智能多彩寬頻譜之光引擎
高效率AR/VR之載具
整合型光感測微型化模組
組織細胞培養與檢測平台
擁有二十年奈米壓印微影（Nanoimprint Lithography, NIL）領域的深厚經驗，我們的團隊致力於開發符合先進製造需求的世界級製程技術。我們已成功將奈米結構製作整合至產業標準流程，應用範圍涵蓋高產能 LED 晶圓、堅硬的藍寶石基板，以及易脆的 InP 雷射晶圓。 憑藉深厚的技術專業與豐富的量產實務經驗，我們能夠針對各種材料提供高度客製化的精細結構。隨著我們持續推進 NIL 技術的極限，應用領域正逐步拓展至下一代的量子科技。
我們的代工業務專注於服務對高精度奈米結構具備量產需求的客戶群。目標對象涵蓋光子元件、微/奈米 LED、超穎透鏡（Meta-optics）、先進感測器與量子裝置等創新技術領域。此外，我們也積極支援生醫晶片、AI 感測技術以及新世代無人與機器人系統等新興應用。
我們與新創公司、研究機構及產業領導者緊密合作，提供可靠且可高度客製化的 NIL 量產服務。透過可擴展、應用導向的製程解決方案，我們致力於推動各產業關鍵技術的商業化進程。
Foundry of Hybrid Nanoimproint Lithography Solution for Material Engineering
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